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无掩膜光刻机

发布日期:2021-11-24 17:59:13     浏览次数:119
核心提示:DMD无掩膜光刻机无需制造掩膜,采用DMD数字掩膜,可在抗蚀剂内曝光所希望的任意图案。无掩膜光刻机可以读取任何CAD数据,除此之外
DMD无掩膜光刻机无需制造掩膜,采用DMD数字掩膜,可在抗蚀剂内曝光所希望的任意图案。无掩膜光刻机可以读取任何CAD数据,除此之外DMD式无掩膜光刻机还可以读取Bitmap, PNG, DXF, GDSⅡ等其它格式。DMD式无掩膜光刻机使用365nmLED光源,降低价格的同时实现了稳定的曝光。采用10倍物镜,一次曝光面积可达1mm?0.6mm,曝光时间仅需1s。结合电动移动平台,可实现曝光拼接,分辨率可达到3mm。可通过公司编写的软件完成详细设定,使操作简洁方便。
DMD无掩膜光刻机与传统的光刻机不同,AU-PALET光刻机采用DMD数字掩膜光刻技术,无需制造掩膜。大大降低了时间和成本。无掩膜光刻机可以读取任何创建的CAD文件,直接进行光刻。除了CAD文件,还可以读取丰富的其它格式的数据,例如Bitmap, PNG, DXF, GDSⅡ等。
无掩膜光刻机https://www.chem17.com/st361024/product_28641642.html
http://www.auniontech.com.cn/SonList-1583113.html

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